اہم پیرامیٹرز جو فریب کو متاثر کرتی ہے

1. توڑتے ہوئے تھراشولڈ

واقعے کے آئنوں کی کم از کم توانائی کی قیمت ہدف ہتھیاروں کو روکنے کے لئے ضروری واقعہ آئنوں کی قسم سے متعلق نہیں ہے لیکن ہدف سے متعلق ہے. توانائی کی مقدار کے بعد sputtering کی حد سے زیادہ، آئن توانائی میں اضافہ کے طور پر 150 سے پہلے اس سے پہلے آئن توانائی کے مربع کے لئے sputtering پیداوار تناسب ہے، اور 150 سے 1 1 کی حد میں آئن توانائی کے لئے sputtering پیداوار تناسب ہے. 1 کائیوا ~ 10 کلو کے رینج میں، sputtering پیداوار تھوڑا سا تبدیل. جب توانائی دوبارہ بڑھ گئی، توڑنے والی پیداوار میں ایک نیچے کی رجحان ظاہر ہوئی. مندرجہ بالا مختلف واقعات کے آئنوں کے ساتھ بم دھماکے کی کئی دھاتوں کی چھتوں کا تختہ درج ذیل ہیں.

2. بچاؤ کی بچت

فضلے کی پیداوار ہر مثبت آئن کی اوسط تعداد سے منسلک کرتی ہے جو ہدف بم دھماکے کے دوران ہدف سے خارج ہوسکتی ہے. متاثرہ عوامل بنیادی طور پر مندرجہ ذیل پہلوؤں میں شامل ہیں:

◆ سپٹرٹرنگ پیداوار ہدف کی جوہری تعداد میں تبدیلی کے ساتھ ایک مخصوص دورانیہ ظاہر کرتا ہے. ہدف ایٹم کے الیکٹرانک بھرنے کی ڈگری کے اضافے کے ساتھ، sputtering پیداوار میں اضافے (تقریبا تبدیل رجحان).

◆ آلودگی کی پیداوار پر واقع آئن کے پرجاتیوں کا اثر

سپٹٹرنگ پیداوار ایونٹ کی تعداد میں اضافہ کے ساتھ وقفے سے بڑھتی ہے.

چاندی، تانبے، اور ٹنٹالم جو 45Kev کے مختلف واقعات کے آئنوں سے ملتی ہے.

◆ خراب پیداوار پر آئن حادثات زاویہ کا اثر

اسی ہدف اور واقعات کے آئنوں کے لئے، آلودگی کی پیداوار میں اضافی اضافہ بڑھتی ہے. جب زاویہ 70 ° ~ 80 ° تک بڑھ جاتا ہے، توڑنے والی پیداوار سب سے بڑی ہے. واقعات کے زاویہ کو بڑھانے کے لئے جاری رکھیں، اسپٹٹرنگ کی پیداوار میں تیزی سے کم ہو گئی ہے، اور سپٹٹرنگ پیداوار 0 0 0 0 ہے.

◆ معدنی پیداوار پر ہدف درجہ حرارت کا اثر

عام طور پر، درجہ حرارت کی حد میں جہاں sputtering پیداوار sublimation توانائی سے قریبی سے متعلق سمجھا جا سکتا ہے، sputtering پیداوار درجہ حرارت کے ساتھ میں بہت ہی تبدیلی. اگر درجہ حرارت اس رینج سے کہیں زیادہ ہے تو، سپٹٹرنگ کی پیداوار تیزی سے بڑھ جاتی ہے.