ویکیوم چڑھانا اور پانی چڑھانے کے درمیان فرق کا پتہ لگانا

ویکیوم چڑھانا اور پانی چڑھانے کے درمیان فرق کا پتہ لگانا

اگر کوئی آپ سے پوچھتا ہے تو، الیکٹروپلٹنگ کیا ہے؟ آپ کیا کہیں گے؟ کچھ کہتے ہیں کہ پانی چڑھانا، کچھ کہتے ہیں کہ خلا چڑھانا. کون سا حق ہے؟ دراصل، "الیکٹروپلٹنگ" مختلف صنعتوں میں مختلف چیزوں کا مطلب ہے. مثال کے طور پر، موجودہ موبائل فون کی صنعت میں، پانی کے الیکٹروپلنگ کے چند ایپلی کیشنز موجود ہیں. بہت سے لوگوں کے دماغوں میں، عام طور پر الیکٹروپلٹنگ سے متعلق ویکیوم چڑھانا ہوتا ہے، جبکہ سینیٹری وارڈ انڈسٹری میں، پانی کی الیکٹروپلٹنگ بڑے پیمانے پر لاگو ہوتا ہے، یقینا، عام الیکٹروپلٹنگ پانی الیکٹروپلٹنگ سے مراد ہوتا ہے. پانی کی الیکٹروپلٹنگ اور ویکیوم چڑھانا دونوں کے ذریعہ electroplating فلم سے تعلق رکھتے ہیں. ہم کوٹنگ فلم کی درجہ بندی سے شروع کرتے ہیں، اور مختلف قسم کی کوٹنگ کے درمیان فرق دیکھتے ہیں.

الیکٹروپلٹنگ کی مصنوعات کی تشکیل کے طریقہ کار کے مطابق مندرجہ ذیل درجہ بندی کی جاتی ہیں:

1. ٹھوس مرحلے کا طریقہ: ---> کیمیائی تبدیلی؛

2. مائع مرحلے کا طریقہ: ---> کیمیائی تبدیلی

3. موسمیاتی طریقہ: -> کیمیائی اور جسمانی تبدیلی

مندرجہ ذیل درجہ بندی:

عام کوٹنگ طریقوں میں شامل ہیں: پانی کی چڑھانا، انوڈیکرن، ویکیوم بپتسمہ، ویکیوم سپٹر اور آئن چڑھانا.

پانی چڑھانا:

مطلوبہ الفاظ: انوڈک تحلیل، کیتھڈو منسلک، الیکٹرو کیمیکل ردعمل

پانی کی الیکٹروپلنگ کا طریقہ بنیادی طور پر اعلی عکاس کرنے والی اثر کو بڑھانے اور چپکنے والی پرتوں میں اضافہ کرنے کے لئے استعمال ہوتا ہے. وغیرہ اس کے فوائد بڑے پیمانے پر چڑھانا، کم لاگت، الیکٹرویٹ اور اعلی صنعتی آلودگی کے زہریلا مادہ ہیں.

پانی چڑھانے کی لائن

Anodic آکسیکرن عمل :

مطلوبہ الفاظ: دھاتی آکسائڈ فلم، الیکٹرو کیمیکل ردعمل

Anodic آکسیکرن Ta2O2، TiO2، ZrO2، Nb2O5، HFO2، WO3 وغیرہ میں بھی بنایا جا سکتا ہے، بنیادی طور پر حفاظتی فلم یا آرائشی فلم رنگنے کے طور پر استعمال کیا جا سکتا ہے.

انوڈائزڈ مصنوعات

ویکیوم صابن کی تیاری بھی تھرمل عصبیت کا بھی نام ہے

پروسیسنگ کلیدی الفاظ: فلم کا احاطہ کرنے کے بعد اعلی درجہ حرارت کی تحلیل شدہ بپتسما، ذخیرہ

فلم کے مواد کے مختلف حرارتی طریقوں کے مطابق، ویکیوم ایپلی کیشن غیر مستقیم حرارتی قسم اور براہ راست ہیٹنگ کی قسم میں تقسیم کیا جا سکتا ہے.

1. غیر مستقیم ہیٹنگ کی قسم: صرف وئپریجنگ ذریعہ کے لئے، غیر متوقع طور پر گرمی کی وجہ سے اس فلم پر مواد پیدا کرنے کی وجہ سے؛

2. براہ راست ہیٹنگ کی قسم: صابن کے ذریعہ اور بپتسما پر فلم کے مواد کو براہ راست گرمی کرنے کے لئے اعلی توانائی کے ذرات (الیکٹران بیم، پلازما یا لیزر) یا اعلی تعدد کا استعمال کریں؛ *

فلم کے مواد کے ذریعہ ذریعہ (کنٹینر) کے بصیرت سے بچنے کے لئے، ذریعہ مواد کے پگھلنے والے نقطۂٔٔٔٔٔٔٔٔٔٔٔٔٔٔٔ کو فلم کے مواد کے ابلتے موقع سے زیادہ ہونا ضروری ہے.

بصیرت کا اصول

مزاحمت حرارتی اور evaporation

فلم کا مواد بجلی کی موجودہ گزرنے سے مزاحمت کے ذریعہ پیدا ہونے والے تھرمل توانائی سے غیر مستقیم طور پر گرم ہوتا ہے. یہ آلہ مندرجہ ذیل ہے:

مزاحمت حرارتی اور evaporation

مزاحمت حرارتی نقصانات:

1. فلم مواد میں گرمی کی منتقلی کرنے سے پہلے ایپپیٹریشن ذریعہ کو گرم کرنا ضروری ہے. صابن کے ذریعہ مادہ یا قیادت کی عدم اطمینان پر عمل کرنا آسان ہے؛

2. واپپریٹنگ ذریعہ کا حرارتی درجہ حرارت محدود ہے، اور زیادہ پگھلنے والے نقطہ پر آکسیڈ پگھلنے اور بپتسما نہیں کیا جا سکتا؛

3. محدود واپرپیٹری کی رفتار؛

4. اگر کوٹنگ کا مواد ایک مرکب ہے، تو اسے خارج کر دیا جا سکتا ہے؛

5. فلم کم کثافت اور غریب آسنشن کے ساتھ مشکل نہیں ہے.

چھڑکنے کی کوٹنگ

مطلوبہ الفاظ: ionized اندرونی گیس، ہدف بمبار، ہدف چھڑک، ڈپوزیشن، کولنگ، فلم کی تشکیل

سپٹرٹرنگ کوٹنگ مشین کا اصول گہا ہوا ویکیوم ریاست میں ہوا ہے جس میں براہ راست جھلی مواد (ہدف) الیکٹروڈ کے ذریعہ ہے، الیکٹروڈ کا استعمال کرتے ہوئے بجلی کو دیکھ کر بجلی کی 5 کلوگرام ~ 15 کلو گرام پلازما بم دھماکے، ایک ہی وقت میں گیس کے ساتھ وینٹیلیشن، گیس ionization، پلازما کے اندر اندر ذرات منتقل، آئن اثرات ہدف مواد اور مواد جوہری طور پر جس سے ذیلی ذراٹ کی سطح پر جمع ہوئی، ایک فلم میں قمیض کو ٹھنڈا کر رہا ہے.

میگنیٹران سپٹرٹرنگ ڈپوزیشن

ڈی سی یا ریڈیو فریکوئینسی سپٹٹرنگ کی بنیاد پر الیکٹروڈ ڈھانچہ کو بہتر بنایا جاتا ہے، یہ ہے کہ مستقل مقناطیس کیتھڈو کے اندرونی طرف کی ترتیب ہے، اور مقناطیسی میدان تاریک علاقے میں برقی میدان کی سمت کے مطابق ہے، لہذا مقناطیسی میدان کے ساتھ چارج شدہ ذرات کے آپریشن کو روکنے کے لئے. یہ معدنی طریقہ مقناطیسی sputtering کہا جاتا ہے .

میگنیٹران سپراٹرنگ پلانٹ ڈایاگرام

جیسا کہ مقناطیسی میدان کی قوت برقیوں کی سمت کے مطابق ہے، الیکٹروس سائیکلکلینسیشن کی سرپرستی قوت قائم کی جائے گی. اس وقت، غیر جانبدار پرجاتیوں کے درمیان تصادم کا امکان بڑھ جاتا ہے، اور کم دباؤ میں پتلی فلموں کو بنایا جا سکتا ہے.

کم دباؤ کے علاوہ، مقناطیسی سپٹرٹرنگ کے دوسرے دو فوائد تیز رفتار اور کم درجہ حرارت ہیں.

لیکن مقناطیسی سپٹٹرنگ میں بھی کچھ مسائل موجود ہیں، جیسے کہ طیارہ مقناطیسی کنٹرول الیکٹروڈ مقناطیسی کنٹرول الیکٹروڈ، مرکزی اور پردیش ہدف کا مواد مقناطیسی فیلڈ اجزاء کے مقناطیسی فیلڈ اجزاء کو زیادہ سے زیادہ چھوٹا نہیں ہے، یعنی مقناطیسی میدان کی سطح کو نشانہ بنانے کے متوازی جزوی طور پر تیز رفتار sputtering کی طرف سے ہدف مواد کی سطح پر ایک سرکلر علاقے میں، چھوٹے ہے، جبکہ مرکزی اور کنارے کم sputtering، لہذا یہ ایک w کے سائز erosional وادی ہو جائے گا، ہدف مواد کے استعمال کی شرح کو کم، اور اثر انداز کر سکتے ہیں فلم یونیفارم.

آئن چڑھانا اصول

آئون چڑھانا

مطلوبہ الفاظ: ویکیوم گیس خارج ہونے والے مادہ، تنقید کا ہدف، بمبار کی بنیاد پر مواد

بنیادی اصول گیس خارج ہونے والے رجحان کا استعمال کرکے فلم آئن ریاست میں الگ الگ ہے اور اس کے بعد اسے سبسیٹیٹ پر جمع کرنا ہے.

آئن چڑھانا کرنے کے لئے بنیادی الیکٹروپلنگ سسٹم پیویڈی نظام ہے، جس میں صرف انپیٹریٹنگ کے بعد فلم مواد کے ساتھ رد عمل کرنے کے لئے رد عملی گیس جوڑتا ہے اور اس کے بعد ذائقہ پر ذخیرہ کرنے کے لئے ذخیرہ کرتا ہے. لہذا، فلم کی کوٹنگ کی ساخت اصل فلم کے مواد سے مختلف ہے، اور یہ بنیاد مواد کا مرکب ہے.

آئن چڑھانا بنیادی طور پر تین مراحل پر مشتمل ہے:

1. ٹھوس جوہریوں کو گیسس جوہری میں تبدیل کرنا: مختلف ویوپیپریٹنگ ذرائع اور مختلف معدنیات سے متعلق میکانیزم اس مقصد کو حاصل کرنے کے لئے ویکیوم ایپلی کیشن ہوسکتی ہیں؛

2. خام مال (عام طور پر 1 تک) کے ionization کی ڈگری میں اضافہ کرنے کے لئے آاسک ریاستوں میں گیسس جوہری باری . آئن عناصر کے آغاز میں آئنائزیشن کی ڈگری حاصل کرنے کے لئے خام مال کی جوہری توانائی میں توانائی کی منتقلی کے لئے مختلف عناصر کا استعمال کیا جا سکتا ہے.

3. فلم کی کیفیت کو بہتر بنانے کے لئے آئنک مواد کی توانائی میں اضافہ کریں: بنیادی طور پر مناسب منفی تعصب شامل کرکے آئنوں کو تیز کرنے کی صلاحیت حاصل کی جا سکتی ہے .

آئن چڑھانا کی خصوصیات مندرجہ ذیل ہیں:

1. آئن چڑھانا کم درجہ حرارت 600 ڈگری پر کیا جاسکتا ہے؛

2. اچھا چپکنے والی؛

3. اچھا کھڑا ہوا - ایٹمی توانائی کا چارج تمام بنیادی سطح تک پہنچتا ہے اور کوٹنگ کو جمع کرتا ہے؛

4. ذخیرہ کی رفتار تیزی سے ہے، 1 ~ 5um تک پہنچ جاتا ہے، جبکہ ثانوی پلیٹ کی اسپٹٹرنگ کی رفتار صرف 0.01 ~ 1.0um / منٹ ہے؛

5. پروسیسنگ جائیداد اور پتلی فلم مواد کی انتخاب وسیع ہے. دھاتیں کے علاوہ، سیرامکس، گلاس اور پلاسٹک پر عملدرآمد کیا جاسکتا ہے.

PVD تکنیکی خصوصیات کے مقابلے میں تین اقسام

مندرجہ بالا عام کوٹنگ کے عمل کی سادہ ملتی ہے. اگر آپ مزید دلچسپ مواد کا اشتراک کرنا چاہتے ہیں، تو آپ آرٹیکل کے اختتام پر پیغام چھوڑ سکتے ہیں.

IKS PVD آپ کے لئے موزوں پی ڈی وی ویکیوم کوٹنگ مشین اپنی مرضی کے مطابق، اب ہمارے ساتھ رابطہ کریں.

iks.pvd@foxmail.com