میگنیٹران سپٹرنگ کا بنیادی اصول

میگنیٹران سپٹرنگ کا بنیادی اصول

Magnetron sputtering مقناطیسی میدان کا استعمال الیکٹرانوں کی نقل و حرکت کو باندھنے، الیکٹران کی آئنائزیشن کی شرح کو بہتر بنانے کے لیے ہے۔ روایتی تھوک کے مقابلے میں، اس کی دو بڑی خصوصیات ہیں: "کم درجہ حرارت (تصادم کی تعداد میں اضافہ، الیکٹران کی توانائی بتدریج کم ہوتی جاتی ہے، اور توانائی ختم ہونے کے بعد صرف انوڈ پر گرتی ہے)" اور "تیز رفتار (راستہ بڑھانا)۔ الیکٹران کی نقل و حرکت، آئنائزیشن کی شرح کو بہتر بنانا، ہدف پر بمباری کرتے ہوئے مزید آئنوں کو آئنائز کرنا)"۔
مقناطیسی میدانوں کے ذریعے پھٹنے کی شرح کو بڑھانے کا بنیادی اصول 60 سال سے زیادہ پہلے پیننگ نے ایجاد کیا تھا اور بعد میں اسے Kay اور دیگر نے تیار کیا تھا، جس سے سپٹرنگ گنز اور بیلناکار مقناطیسی میدان کے ذرائع کی ترقی ہوئی۔ پلانر میگنیٹو ڈھانچے کو 1979 میں چیپین میں متعارف کرایا گیا تھا۔

آئی کے ایس پی وی ڈی کمپنی، آرائشی کوٹنگ مشین، ٹولز کوٹنگ مشین، ڈی ایل سی کوٹنگ مشین، آپٹیکل کوٹنگ مشین، پی وی ڈی ویکیوم کوٹنگ لائن، ٹرن-کی پروجیکٹ دستیاب ہے۔ ابھی ہم سے رابطہ کریں، ای میل: iks.pvd@foxmail.com